Intel verso il dopodomani con i chip da 0,065 micron

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Intel annuncia di avere prodotto un prototipo di chip da 0,065 nanometri. Sarà  la tecnologia che prenderà  il posto degli 0,09 nanometri il cui debutto è previsto tra la fine dell’€™anno e l’€™inizio del 2004.

Intel sfonda la barriera degli 65 nanometri. Chip realizzati con questo tipo di circuiteria sono stati annunciati ieri dalla società  di Santa Clara che fa un passo, dunque, verso la tecnologia di ‘€œdopodomani’€.

La circuiteria da 0,065 micron è infatti la tappa successiva a quella che dovrebbe portare entro la fine dell’€™anno Intel e IBM a rilasciare processori da 0,09 micron, innalzando il livello dell’€™affinamento dei processori attuali fermi da qualche tempo a 0,13 micron. Oltre che i Pentium 4 anche il PPC 970 di Apple è costruito utilizzando chip da 0,13 micron; Intel rilascerà  entro qualche settimana Prescott, il Pentium di nuova generazione, con circuiteria da 0,09 micron seguita a ruota da IBM che lancerà  una versione di PPC 970 da 0,09 micron tra la fine dell’€™anno in corso e l’€™inizio del prossimo. Il passaggio a 0,065 micron nel campo dei processori dovrebbe avvenire entro il 2005.

I chip annunciati ieri da Intel e ancora in fase di affinamento (un processo che può essere anche molto lungo) non sono CPU per computer, ma semplici processori per memorie SRAM, ma la capacità  di incidere circuiti con questo livello di miniaturizzazione va considerato un significativo traguardo.

Il livello di affinamento della circuiteria è un fattore cruciale per l’€™incremento delle prestazioni. Circuiti da 0,065 micron significano un tragitto più breve per gli elettroni e dunque, potenzialmente, prestazioni più elevate e riscaldamento più basso. In aggiunta a questo un circuito di questo tipo è in grado anche di ospitare un maggior numero di transistor sulla stessa superficie, incremento ulteriormente le prestazioni. Infine la miniaturizzazione consente di ridurre i costi perché permette di produrre più processori dallo stesso wafer di silicio.

Intel intende produrre i prossimi chip da 0,065 micron utilizzando alcune tecniche per la riduzione della dispersione dell’€™energia, uno dei problemi che affligge i chip e che diventa maggiore più si avvicinano i circuiti. Tra i sistemi utilizzati ci sarà  strained silicon e l’€™uso di low-k dielectric, già  presenti negli attuali chip di Intel. Non verrà  usato SOI, uno dei sistemi favoriti da IBM (e utilizzato in tutti i processori impiegati da Apple, compresi i G4 di Motorola) perché secondo Intel non garantisce incremento di prestazione.

Intel ha disegnato una tabella di marcia nell’€™affinamento dei processori che la condurrà  entro il 2011 ad avere chip di 0,022 nanometri.