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Da Motorola nuova tecnologia per chip

Motorola ha annunciato di avere sviluppato una nuova tecnologia che consentirà  di creare processori con una densità  di transistor del 50% superiore a quella possibile oggi.
Secondo Motorola, usando un sistema di litografia basati sui raggi E-UV, Extreme Ultra Violet, che consentono incisioni più precise e raffinate e un nuovo tipo di photomask, il materiale applicato sui chip per creare i circuiti, si potranno creare processori la cui distanza tra i circuiti arriverà  a 100 nanometri; a livello di confronto un capello umano ha una dimensione di 10.000 nanometri e gli attuali processori hanno una distanza tra transistor di 157 nanometri.
I responsabili della società  di Schaumburg pensano che nel momento in cui la tecnologia E-UV sarà  affinata a sufficienza la distanza tra i transistore potrebbe scendere fino a 13 nanometri.
Motorola pensa di iniziare a sperimentare la nuova photomask e i raggi E-UV per produrre chip a partire al 2002 ma l’utilizzo su scala commerciale non sarà  possibile che a partire dal 2005.
Nel momento in cui questo sistema entrerà  a fare parte dell’uso comune la circuiteria dei processori scenderà  da 0,13 micron a 0,05 micron.

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