Intel entro il 2007 presenterà processori costruiti con una circuiteria da 45 nanometri. Questo il traguardo che Intel ha prefissato nel corso della giornata di ieri quando presentando per la prima volta pubblicamente alcuni chip realizzati con questa tecnologia.
I processori, chip di memoria SRAM, nonostante siano solo degli esemplari sperimentali, dimostrano che Intel è in possesso degli strumenti necessaria per compiere, e in tempi brevi, un nuovo salto in avanti dopo il lancio dei Core Duo costruiti con tecnologia a 65 nanometri.
Secondo Intel un processore da 45 nanometri avrà un consumo di corrente di un quinto rispetto ad uno di pari prestazioni da 65 nanometri. Uno dei processori presentati ieri ha uyn miliardo di transistor le cui dimensioni sono di mille volte più piccole di quelle di un globulo rosso. La casa di Santa Clara sostiene di avere un considerevole vantaggio nella tecnologia a 45 nanometri rispetto alla concorrenza rappresentata, sostanzialmente, da AMD.
Secondo gli osservatori il passaggio a 45 nanometri sarà più difficile di quello che ha condotto dai 90 ai 65 nanometri, e probabilmente ancora più complesso di quello, già molto complicato, che ha portato dai 130 ai 90 nanometri. I processori saranno realizzati con materiali oggi non comuni ed includeranno parti in metallo oltre che in silicio.
Per semplificare il processo produttivo, anche grazie all’evoluzione della tecnologia, Intel non sembra sarà costretta ad incidere i wafer usando la tecnica ad immersione in acqua distillata e purificata. Il metodo “ad immersione”, che permetterebbe una maggior precisione nel puntamento del raggio di luce, viene differito al momento in cui i processori migreranno ai 32 nanometri, nel 2009. L’uso di litografia ai raggi EUV (Extreme Ultra Violet) sarà il passo successivo, quello per la tecnologia a 22 nanometri.
