IBM, AMD, Freescale Samsung e altre grandi aziende coinvolte nel progetto’ hanno annunciato un approccio innovativo che permetterà di velocizzerà il processo di realizzazione di un materiale all’avanguardia, noto come ‘high-k/metal gate’, nell’ambito dello sviluppo dei chip informatici a 32 nanometri.
I chip che utilizzeranno questa nuova tecnica consentiranno di ottenere migliori prestazioni, riduzioni nel consumo energetico e saranno compatibili con un’ampia gamma di applicazioni: dai microchip per pc a basso consumo destinati ai dispositivi wireless o ad altri dispositivi consumer ai microprocessori ad alte prestazioni destinati all’informatica aziendale o ai videogiochi.
IBM, Sony e Toshiba sono tra le prime aziende ad aver introdotto l’’high-k/metal gate’ come la base per ottenere il tanto atteso miglioramento per il perfezionamento dei transistor, un minuscolo interruttore on/off che è elemento base nella realizzazione di quasi tutti i microchip attuali. L’uso di questo materiale in una parte critica del transistor che ne controlla la funzione primaria di commutazione, ha consentito lo sviluppo di una circuiteria per chip a 32nm progettata per essere più piccola, più veloce e più efficiente nei consumi energetici di quanto si pensasse fosse possibile precedentemente.
[A cura di Mauro Notarianni]
