Sharp Corporation e Semiconductor Energy Laboratory hanno congiuntamente sviluppato un semiconduttore ossido basato sulla tecnologia IGZO (Indium Gallium Zinc Oxide, ossido di indio, gallio e zinco) rendendo possibile la produzione di display a risoluzioni più elevate degli attuali e con consumi energetici inferiori, utili per la creazione di touch screen e pannelli LCD per tablet e smartphone. I dettagli saranno resi noti nel corso SID Display Week Symposium 2012 che si svolgerà a Boston il 5 giugno.
Transistor di dimensioni contenute permettono di sfruttare maggiori densità e ottenere risoluzioni elevatissime (fino a 498 ppi) senza influire sulla trasmissione della luce dello schermo e richiedere meccanismi di retroilluminazione. Il nuovo materiale potrebbe essere adottato in display LCD per dispositivi mobile come gli smartphone (un mercato in costante crescita e nel quale i produttori sono alla ricerca di display di sempre maggiore qualità) e anche in pannelli realizzati con materiali organici (leggeri e flessibili) di media e piccola dimensione.
Le specifiche attuali dei prototipi sono: 4.9” con risoluzione 720×1280, 302 ppi (adatti per smartphone) e 6.1” con risoluzione di 2560×1600 pixel a 498 ppi. Per quanto riguarda gli organic EL display, le specifiche sono: 13.5” con risoluzione di 3840×2160 pixel a 326 ppi (variante OLED + filtri colore RGB) e 3.4” con risoluzione 540×960 a 326 ppi (variante flessibile).
[A cura di Mauro Notarianni]
