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Svolta in Cina: prodotte le prime macchine litografiche avanzate per la creazione di chip

Un’azienda cinese ha iniziato a produrre per la prima volta macchinari chiave utilizzati nella fabbricazione di chip, un passaggio fondamentale nell’obiettivo di Pechino di ridurre la propria dipendenza dalla tecnologia straniera per la produzione dei semiconduttori.

A riferirlo è il sito The Information citando fonti secondo le quali una non meglio precisata azienda con sede a Shanghai sta producendo macchine DUV per la litografia a ultravioletti profondi a immersione, un tipo di apparecchiatura chiave utilizzata d realtà come TSMC per la produzione di semiconduttori.

Se questo macchinari funzioneranno davvero, potrebbero sostituire quelli dell’azienda olandese ASML, che è attualmente il principale fornitore al mondo di apparecchiature per la fabbricazione di chip.

Le indiscrezioni in questione hanno infiammato i mercati azionari di tutto il mondo, con cali osservati a Wall Street e in Asia. La Borsa di Seul, in Corea del Sud, ha perso più del 10% alla chiusura il giorno dopo la diffusione della notizia, mentre a di Tokyo (Giappone) il calo è stato del 4%. I titoli di diversi produttori di semiconduttori sono stati colpiti, compresi Samsung Electronics e SK hynix; continua anche il calo per Nvidia, trascinato anche da voci dell’ampliamento delle iniziative di finanziamento dell’azienda che hanno riacceso il dibattito sul fatto che l’azienda stia contribuendo a creare domanda per i propri prodotti.

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Questo sviluppo evidenzia che gli sforzi di Washington per contenere l’industria dei chip prodotta in patria dalla Cina, limitando l’accesso ad apparecchiature all’avanguardia, non sta avendo successo. Le norme sull’esportazione imposte dal governo degli Stati Uniti attualmente vietano ai produttori di chip cinesi di acquistare i macchinari per la litografia a ultravioletti estremi di ultima generazione di ASML, costringendoli a dipendere dai più vecchi strumenti DUV a immersione della stessa azienda. Una norma attualmente all’esame del Congresso, il Match Act bipartisan, amplierebbe le restrizioni anche sulle apparecchiature DUV a immersione e frenerebbe la manutenzione di questi strumenti in alcuni impianti di produzione di chip cinesi.

Le macchine DUV a immersione, sfruttate per stampano i circuiti sui wafer di silicio, rappresentano gli strumenti di litografia più avanzati a disposizione dei produttori di chip cinesi, con restrizioni che bloccano l’accesso ai sistemi di litografia ultravioletta estrema (EUV).

Sebbene siano meno complesse rispetto a quelle EUV, le macchine DUV a immersione hanno tipicamente bisogno di far riferimento a una rete globale di fornitori specializzati. Il macchinario DUV cinese utilizza principalmente componenti nazionali, anche se alcune parti chiave provengono dal Giappone, riferiscono le fonti di The Information, aggiungendo che ritardi da parte dei fornitori locali hanno rallentato la produzione quest’anno.

A quanto pare la Cina sta sviluppando anche una macchina EUV, sebbene sia ancora in fase di prototipo. Come è facile immaginare, se funzionerà un macchina così avanzato potrebbe fornire ai produttori di chip cinesi una fonte alternativa di attrezzature critiche, aggirando le limitazioni imposte dagli USA sull’esportazione e sulla manutenzione di strumenti litografici stranieri nel Paese.

Lo scorso mese era circolata notizia di macchine di ASML finite in Cina; quest’ultima aveva negato spiegando che tutte le macchine EUV esistenti sono tracciate, funzionano solo se sono connesse e richiedono tecnici olandesi specializzati per tutto il tempo di utilizzo.

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