HomeMacityFinanza e MercatoCanon, dopo 21 anni nuovo impianto elettrolitografico per semiconduttori

Canon, dopo 21 anni nuovo impianto elettrolitografico per semiconduttori

Canon ha annunciato l’intenzione di costruire un nuovo stabilimento elettrolitografico, quelli in altre parole usati nel processi di fabbricazione di dispositivi a semiconduttore.

La litografia – spiega il sito Petapixl – è il primo passaggio nelle procedure necessarie per la a creazione dei chip che troviamo ormai dappertutto, dai forni a microonde ai sistemi di difesa avanzati. I macchinari usati in questi ambiti richiedono una precisione elevatissima per sagomare o altere forme preesistenti sul materiale depositato. Sono macchinari che si usano in ambienti allestiti in camere bianche per l’assemblaggio e per la tecnologia in questione sono nate diverse innovazioni negli ultimi decenni, volte a mantenere rilevante la Legge di Moore estendendo la potenza di calcolo dei singoli chip di silicio.

Stando a quanto riferisce Nikkei Asia, specializzato in notizie su settori industriali ed economici del Sol Levante, Canon prevede di investire oltre 354 milioni di dollari per un nuovo impianto che sorgerà nella prefettura di Tochigi, in Giappone. L’importo in questione comprende la costruzione della struttura e i macchinari necessari per la produzione litografica.

La multinazionale del Sol Levante al momento dispone di due stabilimenti in Giappone, principalmente destinati alla produzione di chip per il settore automotive, e ha già fatto sapere che gli impianti permetteranno di raddoppiare la capacità produttiva. Stando a quanto riferisce Nikkei Asia, per le vendite dei macchinari per la litografia sono è prevista una crescita del 29% rispetto allo scorso anno, arrivando a 180 unità nel 2022, un incremento del quadruplo rispetto a dieci anni addietro.

Canon, nuovo impianto elettrolitografico dopo 21 anni

Attualmente Canon produce il 30% dei dispositivi litografici venduti in tutto il mondo, quasi la metà rispetto a quelli venduti dal più stretto concorrente, ASML. Anche Intel e Taiwan Semiconductor hanno annunciato l’intenzione di vendere macchinari per l’elettrolitografia. Il CEO di Intel, Pat Gelsinger, ad agosto di quest’anno aveva riferito che “in combinazione con progressi tecnologici quali RibbonFET, PowerVia, litografia High NA e sviluppi con packaging 2.5D e 3D, abbiamo l’aspirazione di passare dagli odierni 100 miliardi di transistor su un package a 1 trilione entro il 2030”.

Canon, a quanto pare, avrebbe intenzione di sviluppare una “tecnologia di nuova generazione” denominata “litografia nanoimprint” (nanostampa), con l’obiettivo di gestire “tratti più sottili”, elemento che in altre parole significa maggiore capacità e riduzione di tempi di lavorazione. La multinazionale giapponese prevede una riduzione del 40% nei costi produttivi con i nuovi macchinari, così come una riduzione del 90% nel consumo energetico. Il nuovo stabilimento dovrebbe essere operativo dal 2025 e sorgerà nei pressi di uno stabilimento già esistente.

L’industria sta entrando in una nuova età dell’oro dei semiconduttori, un’era nella produzione di chip che richiede un passaggio dalla tradizionale mentalità del modello di fonderia a una fonderia di sistemi.

La carenza di chip ha costretto recentemente Canon  a produrre toner per stampanti senza il chip che effettua la verifica sulla loro autenticità.

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