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Intel, Samsung e Toshiba: chip da 10nm entro il 2016

Intel, Samsung e Toshiba hanno unito forze e reparti di ricerca & sviluppo per la creazione di un nuovo consorzio al 50% finanziato dal Ministero dell’Economia, Commercio e Industria giapponese (un contributo di 62 milioni di dollari). L’obiettivo è la creazione di semiconduttori da 10 nanometri (nm) entro il 2016. Dopo aver definito alcuni particolari, altre dieci aziende saranno invitate a partecipare al progetto. Intel sta già da qualche lavorando a tecnologie di produzione 22 nanometri: processi di produzione che consentiranno la realizzazione di sistemi più sottili e prestazioni migliori. I vantaggi nel passare a queste tecnologie sono molteplici: miglioramento della resa produttiva con conseguente abbattimento di costi (una CPU di piccole dimensioni può essere fabbricata con un solo wafer), diminuzione del consumo elettrico, integrazione di un numero di transistor maggiore e conseguente aumento della potenza elaborativa.

[A cura di Mauro Notarianni]

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