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Processori Intel a 32 nanometri entro il 2009?

I nuovissimi processori Intel Core Duo che equipaggiano, tra gli altri, i nuovi iMac e MacBook sono prodotti con un processo litografico a 65nanometri (nm), che permette di avere un numero maggiore di transistor nello stesso spazio di un chip prodotto con un processo a 90nm.
àˆ anche possibile ottenere molti più chip da un cosiddetto wafer, il che aiuta a ridurre in maniera significativa i costi di produzione.

Malgrado Intel sia all’avanguardia in questo campo (AMD dovrebbe passare a 65nm entro la fine dell’anno), già  si hanno notizie di programmi di ricerca interni alla stessa azienda volti a sviluppare un sistema di produzione che permetta di ridurre ulteriormente le dimensioni dei singoli transistor.

Per stampare i circuiti su un chip si usa attulmente della luce con lunghezze d’onda nell”ordine dei 193nm. Il nuovo processo in corso di sviluppo, chiamato “Extreme Ultra-Violet (EUV) Litography” utilizza luce a soli 13,5nm, rendendo possibile la realizzazione di transistor molto più piccoli.

Al fine di semplificare il concetto, sul sito di Intel è proposto il paragone con un pittore: per poter disegnare linee fini è necessario utilizzare pennelli di piccola dimensione. Nel caso dei chip, il fascio di luce sta al pennello come le linee stanno ai circuiti.

La tecnologia non è ancora matura, ma Intel stima di riuscire ad impiegarla nella produzione di chip su larga scala a partire dal 2009.

Grazie della segnalazione a Paolo Musolino

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