Alla IBM ci si prepara alla produzione di chip da 45 nanometri. Per raggiungere l’obbiettivo di dimezzare le dimensioni dei circuiti degli attuali processori commerciali più comuni (90 nanometri) Big Blue ha stipulato un accordo per costruire apparati photomask più avanzati di quelli attuali con Toppan. Il photomask di fatto proietta la traccia dei chip sulla base del quale si procede poi all’incisione del circuito.
In base al patto di collaborazione IBM e la società giapponese spenderanno congiuntamente 200 milioni di dollari per studiare le apparecchiature necessarie a questo scopo.
La sviluppo avverrà nello stabilimento di Brulington, in Vermont, ma la sperimentazione avverrà ad East Fishkill, in New Jersey nell’impianto utilizzato da IBM per produrre i chip più avanzati, tra cui i G5 di Apple.
IBM e Toppan pensano di rilasciare i primi chip da 45 nanometri già entro nel 2007, anticipando di almeno un anno i tempi originariamente previsti per la presentazione di processori con questo livello di miniaturizzazione.
